ナノディップ®コーターND-0407-S1
本装置は主に実験用に製作した装置で、クリップされた薄板をタンクの中の湿布液に浸し引き上げることにより、両面同時に薄膜を形成するための装置です。
ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質に超低速のナノ単位の速度(10nmごとの可変)にてディップが可能です。分離膜生成、ナノレベルの膜厚形成、オパール膜生成等に適しています。
操作はタッチパネル方式を採用し、誰でも何処でも同一条件で簡易に操作が出来ます。停止ポイント(最大8ポイント)、速度変更(10nm単位)、繰返し動作、動作パターンの記憶(最大8パターン)がタッチパネル上で簡単に行えます。京都大学平尾研究室のご指導により開発されたシステムです。日本語、英語表示はワンタッチ切り替えですので外国人の研究者がおられる場には最適です。
| 材 質 |
アルミニウム(A505)、ステンレス(SUS304) |
| 外形寸法 |
本体: 横幅 200mm 高さ 310mm 奥行き 200mm 重量 10kg |
| 制御 BOX: 横幅 260mm 高さ 145mm 奥行き 200mm 重量 12kg |
| 処理対象物 |
最大基板サイズ 50mm×50mm |
| 処理速度 |
10ナノm/sec〜2mm/sec (10ナノm/sec単位で可変) |
| 処理ストローク |
50mm |
| ユーティリティ |
単相100V 200VA |
PDF形式のファイルを開くには、AdobeReader(旧AdobeAcrobatReader)が必要です。
お持ちでない方は、Adobe社から
無償でダウンロードできます。